眼睛一眨不眨地看着仪器。
作为刻蚀行业沉浸几十年的大佬，尹之耀心里不断地评价着这座实验室。
按理来说，其实面对王东来设计出来的这一份刻蚀方案，不应该这么激动和看重。
王东来和陈凌岳等人见到尹之耀这样的表现，心里也不禁对尹之耀生出了一丝钦佩。
作为沉浸这一行几十年的老专家，在他手上其实也研发出来过不少先进的刻蚀方案。
毕竟这么大岁数的人了，还能对技术保持这样的心态，属实是很不错了。
这种刻蚀过程同时兼具物理和化学两种作用，辉光放电在零点几到几十帕的低真空下进行，硅片处于阴极电位，放电时的电位大部分降落在阴极附近，大量带电粒子受垂直于硅片表面的电场加速，垂直入射到硅片表面上，以较大的动量进行物理刻蚀，同时它们还与薄膜表面发生强烈的化学反应，产生化学刻蚀作用。
因为一个很简单的道理，技术越往后发展，所受到的掣肘也就越大，需要避开的东西也就越多。
而现在，尹之耀的面前就有这些仪器。
因为他已经确定了，王东来的这份蚀刻方案确实是合格的，甚至是优秀。
而尹之耀则是第一时间，想要进去看看结果如何，便看向王东来准备出声征求意见。
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