“目前，干法刻蚀工艺主要是离子铣刻蚀、等离子刻蚀和反应离子刻蚀三种方案。”
“而这三种方案，离子铣刻蚀最为简单，可控性也比较高，技术成熟度也很高，相关的专利其实也已经被申请的差不多了，想要弯道超车，避开西方的专利壁垒，这个方案非常的难。”
“除此之外，这个方案也有技术本身的缺点，那就是刻蚀选择性极差，必须采用专门的刻蚀终点检测技术，并且刻蚀速率也比较低，性比价相当低。”
“而等离子刻蚀，虽然通过选择和控制放电气体的成分，可以得到较好的刻蚀选择性和较高的刻蚀速率，但是刻蚀精度却并不高，一般只能运用在大于4-5微米线条的工艺之中。”
“而我们实验里正在进行的项目，就是王总设计的反应离子刻蚀方案！”
陈凌岳一边介绍着，一边带着尹之耀等人朝着刻蚀方案项目区域而去。
听到陈凌岳这么介绍，尹之耀的神情并没有多大的变化。
论文他已经看过了，虽然有些吃惊王东来的动作迅速，直接就在自己的实验室进行验证，但如果只是这样的话，也只能算是一般，中规中矩。
尹之耀的心里想法，其实不仅是王东来能看出来，陈凌岳也能看出来。
选择合适的气体组分，不仅可以获得理想的刻蚀选择性和速度，还可以使活性基团的寿命短，这就有效地抑制了因这些基团在薄膜表面附近的扩散所能造成的侧向反应，大大提高了刻蚀的各向异性特性。
并且，论文里面透露出来的信息，也让尹之耀充满了期待。
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