很可惜，光刻机研发至此为止，我国开始大规模引进外资，有了造不如买、科技无国界的思想。光刻技术和产业化停滞不前。放弃电子工业的自主攻关，诸如光刻机等科技计划被迫取消，导致20年技术积累全部付诸东流。
1994年，江城无线电元件三厂破产改制，卖副食品去了。
九十年代以来，光刻光源已被卡在193纳米无法进步长达20年，这个技术非常关键，这直接导致ASML如此强势的关键。直到二十一世纪，我国才刚刚开始启动193纳米ArF光刻机项目，足足落后ASML20多年。
光刻机是采用类似照片冲印的技术，把掩膜板上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上的设备，是制造芯片的核心装备，也是目前顶尖科技的代表。
高精度光刻机的制造工艺极其复杂，核心零件便有8万个左右，共需要超10万个零部件，因此，光刻机也有了“现代光学工业之花”的称号。如此高的制造门槛，也就导致了光刻机制造领域的玩家也寥寥无几。
还好，王林出现了。
他在1995年横空宣布，进入半导体产业。
这个时间，正好是我们电子产业即将断代的时候，也是我国光刻机产业还不是太落后于外国的时候！
王林伸出他的大手，接住了时代赋予他的半导体接力捧！
他能否带领爱秀人，在半导体领域闯出一片别样的蓝天？
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