正常人看来，设计芯片的肯定比生产的工厂要赚钱。
办代工厂，既累又苦，利润还低。
欧美大厂对此不屑一顾。
但王林却选择了这条最辛苦的道路。
请来了光刻机领域最厉害的教授，王林成立了爱秀科技最重要的一个研发部门。
这个部门，这个团队，只做一件事，那就是尽一切能力，研究出新一代的光刻机技术。
我国的光刻机技术，曾经领先于世界，处于最先进的水平。
1964年我国科学院研制出65型接触式光刻机；1970年代，我国科学院开始研制计算机辅助光刻掩膜工艺；清大研制第四代分部式投影光刻机，并在1980年获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平。而那时，光刻机巨头ASML还没诞生。
1982年，科学院109厂研制出KHA-75-1光刻机，这些光刻机在当时的水平均不低，最保守估计跟当时最先进的相比最多也就不到4年。
1985年，机电部45所研制出了分步光刻机样机，通过电子部技术鉴定，认为达到米国4800DSW的水平。这应当是我国第一台分步投影式光刻机，我国在分步光刻机上与国外的差距不超过7年。
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