具体怎么回事儿，反正齐磊也不懂，就知道湿刻比干刻有优势，可以在不改变光刻机其它部件和精度的情况下，突破193纳米的极限。
这也是齐磊在后世的报道中得到的只言片语。
而且还知道，这个从干刻到湿刻的过程，正是台积电的一个技术人员提出来的。
他也是偶然的一个创意，随口说了句，“只要往光刻机里注水，芯片制程就能大幅度提高。”
最后成就了这次技术革命。
是的，没错，就是这么简单！
虽然由原本的光刻技术到湿刻的过程肯定比这么一句话复杂得多，也有难度得多。
可是，原理就是这么简单，就是一个随口而出的创意。
而EUV
LLC之所以这么保密，原因也在这儿，太简单了！
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