如今，列别杰夫设计并生产的光刻机，只有三微米。
而美国和日本的产品，已经突破了1微米，达到了0.8微米，听说0.5微米的已经开始进入量产。
华夏最先进的光刻机是由松江微电子所研制的，目前最顶级的是1.5微米。
而布尔采夫认为，1.5微米的就能满足要求。
双方都是为了自己的利益。
一个想把芯片抓紧生产出来，芯片只有经过市场检验，才能知道哪里存在问题。
一个想跟公司要更多资金研发更先进的光刻机。
“院士同志，我是这么考虑的，你看行不行，咱们公司在全世界发布生产线招标，让全世界的相关公司参加，能不能实现1微米以下？”
巴巴扬摇了摇头，说道：“难，现在不是钱的事，而是欧美对华夏和苏联禁运。”
“能不能请别人代工？”
“代工？”
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