一直以来，华国的光刻机项目最大难题就是光源和反射镜。
如果没有蔡司不卖给ASML那套占其整机成本近40%的、由十几面完美反射镜组成的投影镜头系统，华国的EUV光刻机就算解决了99%的问题，它也没有办法上生产线。
而随着佳能的FPA-1200NZ2C，5纳米NIL光刻机已经在申海安装调试完毕后，林燃知道解决光刻机问题的时间点到了。
由华国官方组织，提前在申海微电子所安排好了人员和场地，包括佳能的NIL光刻机也放在申海微电子所。
该来的人都到齐后，林燃才进场。
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