在看似荒芜的芯片产业土壤中，希望已经开始萌芽。以华芯为代表的第一批自主芯片创业者已经悄然从这里起步，它们将开枝散叶，启迪我国芯片产业未来20年的辉煌。
1997年，芯片的制程还在200纳米左右攻关。
1990年代初，芯片制造技术进入了超微米时代，制程尺寸开始从0.8微米逐渐缩小至0.5微米，甚至更小。这一技术的出现，不仅大幅度提升了芯片的速度和性能，还使得电子设备更加节能、轻便和便携。
超微米技术的出现，也引发了一个新的问题——光刻技术的局限性。
光刻技术是半导体制造过程中必不可少的一步，它能够将电路图案打印到芯片上。
然而，随着制程尺寸的不断缩小，光刻技术已经到达了物理极限，不能再进一步缩小了。
为了克服这一问题，科学家们开始探索新的替代技术，例如电子束刻蚀、x射线刻蚀等，这些技术使得芯片制造工艺得到了重大的进展。
除此之外，超微米技术也为芯片的发展带来了更多的应用领域。例如，在医学领域，芯片技术被用于制造微型医疗设备，从而实现了更小、更精确、更有效的医疗诊断和治疗。
超微米技术的发展，为芯片技术的发展奠定了重要的基础，同时也推动了半导体产业的飞速发展。
90年代中后期，系统芯片开始在市场上崭露头角。系统芯片不仅包含了中央处理器cpu，还包括了其他的处理器、存储器、图像处理器等多种功能模块，从而使得电子设备的整体性能更加出色。
未来的智能手机、平板电脑、智能家居设备等都采用了系统芯片。
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